Sharp a Sakai e a Catania

È iniziata il 29 marzo l'attività di produzione del nuovo impianto fotovoltaico a film sottile di Sakai (Giappone). L'impianto è stato costruito dalla Sharp. Avrà una capacità iniziale di 160 MW, che in seguito potrà salire fino a 1000 MW. Si tratta di un impianto identico a quello che Sharp sta costruendo a Catania, in joint-venture con Enel e STMicroelectronics, e che entro il 2011 inizierà la produzione di 160 MW, che potrà in futuro arrivare a 480 MW.

La tecnologia dei pannelli a film sottile consiste in sottilissime pellicole di silicio disposte a strati su una base di vetro. In questo modo si riduce del 99% la quantità di silicio utilizzata rispetto ai pannelli a moduli cristallini, abbassando i costi per la materia prima e semplificando la fabbricazione. Per tale motivo la richiesta sul mercato di pannelli a film sottile è in costante crescita, soprattutto negli impianti su larga scala. La Sharp si propone dunque di usare l'impianto di Sakai come modello per gli altri da vendere nel resto del mondo.

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