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Sharp a Sakai e a Catania

È iniziata il 29 marzo l'attività di produzione del nuovo impianto fotovoltaico a film sottile di Sakai (Giappone). L'impianto è stato costruito dalla Sharp. Avrà una capacità iniziale di 160 MW, che in seguito potrà salire fino a 1000 MW. Si tratta di un impianto identico a quello che Sharp sta costruendo a Catania, in joint-venture con Enel e STMicroelectronics, e che entro il 2011 inizierà la produzione di 160 MW, che potrà in futuro arrivare a 480 MW.

La tecnologia dei pannelli a film sottile consiste in sottilissime pellicole di silicio disposte a strati su una base di vetro. In questo modo si riduce del 99% la quantità di silicio utilizzata rispetto ai pannelli a moduli cristallini, abbassando i costi per la materia prima e semplificando la fabbricazione. Per tale motivo la richiesta sul mercato di pannelli a film sottile è in costante crescita, soprattutto negli impianti su larga scala. La Sharp si propone dunque di usare l'impianto di Sakai come modello per gli altri da vendere nel resto del mondo.

TEMA TECNICO:

Solare fotovoltaico

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